TG2U型光刻机－半导体生产及实验设备

半导体生产及实验设备

■ [产品名称]：TG2U型光刻机

■ [工艺方案]：半导体设备

■ [产品价格]：面议或请致电我公司销售部咨询！

■ [产品简介]：
产品特点：
TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。
欢迎您联系我们获得光刻机(TG2U型)的更多信息。

■ 说明

TG2U型光刻机主要技术参数见下表：

项目	参数
适用的掩模尺寸	a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(选购)；
适用的硅片尺寸	φ35—75mm
光刻图形线条	3-4μm, 最细可达2μm
掩模与硅片之间的相对位移范围	X/Y±2.5mm,(族转) ±6°
承片台(硅片)绕主轴旋转	粗调360度,可微调
承片工作台综合移动范围	X,Y合成φ75mm
承片台的球座平面至掩模板面升降	0—7.5mm
曝光灯源	GCQ200W超高压汞灯，曝光波长，300―436nm
曝光系统能量不低于	7mw
曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内	±5％
显微镜的照明波长	≈545nm
曝光时间控制范围	0.1秒—99分
双目显微镜的放大倍数	a.目镜共二种:10X,16X；b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；
真空接触压力	≥0.7kgf
装箱尺寸	1000X850X980mm(2只)
装箱重量	200kg

注：用户有何特殊要求可协商。

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